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著作分類
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論文
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著者
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Fujimura, Shuzo: K. Ishikawa: H. Ogawa
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論文タイトル
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Analysis of native oxide growth process on an atomatically flattened and hydrogen terninated Si(111) surface in pure water using Fourier transformed infrared reflection absorption spectroscopy
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機関名
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Journal of Vacuum Science and Technology
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巻
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vol. A16(1)
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号
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ページ
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375
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出版・発行年月
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1998
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要旨
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備考
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参考URL
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ラベル
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技術経営
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登録日
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1998/12/31
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