詳細情報
著作分類
論文
著者
Ishikawa, K.:Y, Uchiyama:H, Ogawa:S. Fujimura
論文タイトル
Dependence of TO TO and LO mode frequency of thermally grown silicon dioxide films on annealing temperature
機関名
Applied surface science
巻
vol.117/118
号
ページ
212
出版・発行年月
1997
要旨
備考
参考URL
ラベル
技術経営
登録日
1997/12/31
