|
著作分類
|
論文
|
|
著者
|
Hayami,Y.:M. T. Suzuki:Y. Okui:H. Ogawa:S. Fujimura
|
|
論文タイトル
|
Characterization of cleaning technology for silicon surfaces by hot water containing little dissolved oxygen
|
|
機関名
|
Japan Journal of Applied Physics
|
|
巻
|
vol.35
|
|
号
|
|
|
ページ
|
4577
|
|
出版・発行年月
|
1996
|
|
要旨
|
|
|
備考
|
|
|
参考URL
|
|
|
ラベル
|
技術経営
|
|
登録日
|
1996/12/31
|
