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著作分類
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論文
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著者
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Suzuki,M. T.:J. Kikuchi:M. Nagasaka:S. Fujimura
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論文タイトル
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Etching characteristics during cleaning of silicon surfaces by NF3-added hydrogen and water-vapor plasma downstream
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機関名
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Materials Research Society symposia proceedings
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巻
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Vol.477
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号
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167
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ページ
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出版・発行年月
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1997
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要旨
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備考
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参考URL
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ラベル
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技術経営
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登録日
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1997/12/31
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