詳細情報
著作分類
本の一章執筆
著者
藤村修三:石川健治
論文タイトル
7. 赤外反射吸収分光法を用いたシリコン酸化初期過程および酸化薄膜構造の解析
編者
本タイトル
表面反応とプロセス制御に関する調査報告書II
ページ
pp.54-66
出版社都市名
出版社名
社団法人日本電子工業振興協会
出版・発行年月
1996/03
要旨
備考
参考URL
ラベル
技術経営
登録日
1996/12/31
